G6-E型
水素ガス・塩素ガスの大流量同時処理可能、燃焼式排ガス処理装置
製品紹介
- G6-E型は半導体製造工程における、エピタキシャル成長装置等に使用される大流量水素及び塩素を含んだ排ガス処理に適した燃焼式排ガス処理装置です。コンパクト設計で最大200L/minの水素処理が可能、水素ガス・塩素ガスの同時処理にも対応しています。副生成物除去機能を標準搭載し、メンテナンスコストや負荷を低減します。
スペック
| 型式 | 型式 | 単位 | G6-E A1~A4 | G6-E P1~P4 |
| 処理方式 | 処理方式 | 燃焼式＋湿式 | 燃焼式＋湿式 | |
| 最大流入ガス許容量 | 最大流入ガス許容量 | L/min | 400 | 400 |
| 燃料 | 燃料 | 都市ガス | プロパンガス | |
| 寸法 | 寸法 | W x D x H mm | 1,200×650×1,900mm | 1,200×650×1,900mm |
| H₂最大処理可能流量 | H₂最大処理可能流量 | L/min | 200 | 200 |
| 処理可能ガス例 | 処理可能ガス例 | プロセス(デポ)ガス H2 、PH3、Si3H8、SiH4、PH3、GeH4、AsH3、NH3、SiH2Cl2、B2H6、など クリーニングガス全般 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 など エッチングガス全般 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 など |
プロセス(デポ)ガス H2 、PH3、Si3H8、SiH4、PH3、GeH4、AsH3、NH3、SiH2Cl2、B2H6、など クリーニングガス全般 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 など エッチングガス全般 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 など |
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| 標準装備品 | 標準装備品 | 大流量H2処理バーナー 粉体除去用バーナスクレーパ |
大流量H2処理バーナー 粉体除去用バーナスクレーパ |
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| オプション | オプション | 市水・排水使用量削減ユニット 粉体排出削減用ファンスクラバー |
市水・排水使用量削減ユニット 粉体排出削減用ファンスクラバー |
