製品や技術の中核となる半導体・液晶・太陽電池セル等の製造メーカーのニーズに応える半導体産業用装置・機器、真空機器を提供しています。
ドライ真空ポンプは、すべての主要産業部門において最高のパフォーマンスを発揮するように設計されています。
軽負荷用途から腐食性プロセス、反応副生成物が発生する高負荷プロセスまでの幅広いアプリケーションを対象とし、用途に応じたドライ真空ポンプの型式をラインナップしております。
排ガス処理装置は、半導体・液晶パネル・太陽電池・LED等の製造で使用される様々なガスを、用途に応じて燃焼式・吸着式・触媒式といった方法にて処理します。
オゾン水装置は次世代ウェットプロセス対応のクリーンオゾン水を連続供給できる装置です。
ウェーハ表面を化学的機械的に研磨するクリーンルーム設置型のCMP装置です。
市場で証明された高い信頼性と優れたプロセス性能を有する本製品は、各ユーザの仕様に対応するようフレキシブルな装置構成が可能です。
半導体ウェーハにバンプ、再配線、ビア等の微細パターンを形成させるクリーンルーム設置型の電解めっき装置です。
半導体ウェーハの端面であるべベル部分やその周辺のエッジ部分、また、ウェーハ裏面部分を研磨することによって欠陥を除去する装置です。
