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精密・電子カンパニー

ドライ真空ポンプ

半導体製造工程などで真空をつくり出すために使われています。

排ガス処理装置

半導体製造工程などで使用される有害ガスを、工場の外に排気する前に無害化します。

CMP装置

半導体ウェーハの表面を砥液で研磨し、ナノメートルレベルの平坦化を可能にします。

めっき装置

ウェーハの上の微細なパターンに沿って、金属膜を均一にめっきします。