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F-REX型
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高性能、高通量以实现高生产力
干燥/湿润
高工艺性能
高通量能力
高操作率
多步骤化学清洗能力
抛光过程终点监测(选项)
在线薄膜厚度监测(选项)
多种功能和灵活配置
符合SEMI-S2/CE标准
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产品介绍
F-REX型号是一个兼容洁净室的CMP系统,用于晶圆表面的化学机械抛光。其高可靠性和卓越的工艺性能已在市场上得到验证,并提供多样化和灵活的配置以满足每个客户的需求。
双模块系统,工艺室之间无相互污染。如果一个模块停止,另一个模块会自动开始操作。这意味着无需关闭整个单元进行维护或故障排除,从而实现高生产力。双模块系统还便于在一个单元中进行多种工艺处理。不仅适合大规模生产的单元配置,也适合测试和开发。
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