半导体设备的性能提升和小型化加速了。
利用在流体机械与系统业务中获得的泵技术，我们开发了用于半导体的真空泵。
次年，1986年，我们交付了第一台罗茨式干式真空泵。

我们开发了气体处理系统，以去除制造过程中产生的有害气体，如温室气体和有毒气体，并解决由有害排放造成的持续环境问题。

荏原开始开发CMP系统，以支持半导体的小型化和多层化，使得电子设备和工厂机械越来越小。