このオゾン水装置はフッ素樹脂溶解膜、クリーンかつ高濃度オゾナイザ及びノンパーティクルポンプを組み合わせることにより、次世代ウェットプロセス対応のクリーンオゾン水を連続供給できる装置です。 |
特長
- 極めてクリーンな気泡のないオゾン水
オゾンガス発生源には当社独自のクリーンオゾナイザ、溶解方法にはふっ素樹脂溶解膜による拡散溶解の採用により、極めてクリーンで気泡のないオゾン水を供給できます。 - オゾン水送水流量の高精度制御
当社独自のノンパーティクルポンプを内蔵し、流量信号によるフィードバック制御を行っているため、原水圧力に変動があっても送水量、送水圧力は極めて安定しています。階下設置も可能です。 - 高いオゾン水濃度制御性能
オゾン水濃度のフィードバック制御により、オゾン水濃度を自動で一定に保ちます。また、オゾン水濃度制御パラメー夕の自動演算機能を有しており、オゾン水濃度設定値の変更のみでオゾン水濃度の変更が可能です。 - オゾン濃度の高速立ち上がり
完全停止状態から設定濃度まで、極めて短時間に安定します。 - 高い信頼性
1994年販売開始から、世界各国の半導体、液晶量産工場において豊富な納入実績があります。定期メンテナンスを除きほとんどメンテナンスの必要がありません。
また、CE,SEMI S2,S8 の規格はもとより、SEMI F47-0200（瞬時電圧低下対策）の規格にも対応可能です。 - 脱気・ガス溶解システム
エバラ脱気水製造装置、エバラガス溶解水製造装置（H2、N2、CO2）と組み合わせ、より高度な機能水の供給が可能です。
用途
- 半導体ウェーハ、LCD 基板の洗浄
有機、金属汚染物の除去 - 均一な極薄酸化膜の形成
- 半導体ウェーハ表面の親水化
- レジストはく離
- その他，フォトマスク、LD 、LED 、ハードディスク等の洗浄
フローシート
オゾン水製造装置に関するお問い合わせ |
